电沉积Cu-A1N复合镀层的制备和性能的研究

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本文采用复合电沉积的方法,制备Cu- AlN复合镀层。通过正交试验方法以及单因素分析法研究了不同因素、水平对复合镀层沉积工艺以及性能的影响,着重探讨了不同粒径氮化铝对复合镀层性能的影响。利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)对镀层的形貌,组织结构进行分析,并通过显微硬度测试、摩擦磨损试验、电化学试验测试了镀层的力学性能、摩擦磨损性能和耐腐蚀性能。利用ZETA电位仪探讨了镀液电位与镀层性能的关系。结果表明:氮化铝的添加量和阴极电流密度是影响镀层性能的最主要因素,随着氮化铝添加量的升高
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