CRT荧光粉用高反射率超细钴蓝颜料的制备

来源 :西安交通大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lie_luren
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该研究旨在寻求一种合适的制备方法和适当的工艺条件制备这种高反射率的超细钴蓝颜料,以实现其国产化.首先采用了氧化钴法和硫酸盐法制备钴蓝颜料,对最佳钴铝摩尔比和锻烧条件等工艺进行了讨论和优化,但这两种方法得到的钴蓝的粒度和反射率仍不理想,其主要原因是制备方法限制了钴和铝的均匀混合.由于共沉淀法得到沉淀物混合更加均匀,采用了共沉淀法制备高反射率的超细钴蓝,对比选择了尿素作为沉淀剂,确定了最佳的煅烧条件、最佳钴铝摩尔比以及醇脱水的工艺;讨论了硫酸盐在共沉淀过程中对钴蓝颜料的粒径、微观形貌和反射率的影响以及其作用机理,并确定了最佳用量为0.097mol/L;讨论了添加分散剂的方法对钴蓝颜料粒径的影响,发现在加入0.5﹪的PEG-20000时能改善钴蓝颜料的粒径;研究了掺杂Zn<2+>和Mg<2+>的情况下对钴蓝颜料反射率的影响,发现在掺杂2.5﹪的Zn<2+>对450nm处反射率有较大改善;最后发现共沉淀过程中外加超声波的方法能改善了钴蓝颜料的粒径.制备得到的钴蓝颜料通过荧光光谱仪、粒度分析仪、热重分析仪、X射线衍射仪和扫描电镜等手段进行了表征和分析.通过以上的改进措施,最后制得然蓝颜料450nm处反射率为61.8﹪,粉体中值粒径为0.45μm,99﹪以上小于1μm, 外观疏松,其反射率和料径性能达到了日本同类产品的水平.
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