【摘 要】
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量子点色转换层在Mini/Micro LED显示应用中发挥关键的作用,而像素框架作为量子点涂层的核心集成部件,起分割像素、限制串光、消除外界光干扰等功能,是获得高品质微型LED器件的关键。而使用压印法制备高深宽比像素框架时,会出现衬底透光性不足,严重阻碍像素光激发与提取的问题。本文针对此问题,提出了磁-振复合压印工艺,在压印过程中调控磁性消光粉末的分布,使制备所得像素框架在保证框壁限制串光、消除外
【基金项目】
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国家自然科学基金项目,《聚合物界面微观扰动电场诱导微纳结构成形制造机理研究》,项目编号52075186； 国家自然科学基金项目,《Mini LED 器件准自由曲面量子点透镜半约束压差驱动制造的基础研究》,项目编号52105443； 广东省科技计划项目,《低环境污染量子点发光材料与器件的研制及其产业化应用》,项目编号2020B010
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量子点色转换层在Mini/Micro LED显示应用中发挥关键的作用,而像素框架作为量子点涂层的核心集成部件,起分割像素、限制串光、消除外界光干扰等功能,是获得高品质微型LED器件的关键。而使用压印法制备高深宽比像素框架时,会出现衬底透光性不足,严重阻碍像素光激发与提取的问题。本文针对此问题,提出了磁-振复合压印工艺,在压印过程中调控磁性消光粉末的分布,使制备所得像素框架在保证框壁限制串光、消除外界光干扰性能的同时,衬底获得高的透光性能。并且通过探究不同工艺参数对压印制备像素框架成型效果的影响,对该工艺的成型机理进行研究;然后固定工艺后,对像素框架结构进行优化;最后对该工艺对于像素框架量子点色转换应用性能的影响进行研究,并结合仿真模拟探究该工艺对色转换涂层出光机理的影响规律。具体内容如下:（1）磁-振复合压印成型机理研究对磁-振复合压印工艺制备过程以及表征方法进行介绍,并分别探究调控时间、磁场强度与振动幅度三个工艺参数对于成型效果的影响规律,探究其在制备过程中所发挥的作用,对工艺的成型机理进行研究。（2）磁-振复合压印像素框架结构优化根据上一章对工艺成型机理的研究,在固定一套工艺参数后,分别从磁性消光粉末浓度、衬底厚度、像素框架尺寸三个结构参数方面入手,探究其对于工艺成型效果的影响规律,从而对像素框架的结构进行优化。（3）磁-振复合压印像素框架在量子点色转换的应用使用Tracepro模拟仿真对不同吸光结构像素框架的光学性能进行探究,总结了该工艺对于量子点像素框架量子点色转换应用性能的提升机理。并将分别使用磁-振复合压印工艺与传统压印工艺所制备的像素框架进行光学性能对比,并制备成像素化量子点色转换涂层后,对其色转换性能进行分析,验证该工艺对于色转换应用性能的提升效果。
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