Ni_xO_y薄膜是一种常用的无机阳极电致变色材料。但由于Ni_xO_y薄膜具有响应时间较长、光学调制幅度范围小,循环稳定性较差等缺点,为了有效地解决上述问题,本文利用直流反应磁控溅射技术通过改变溅射过程中的氧分压、掠射角度α、衬底温度等对Ni_xO_y薄膜表面和断面形貌特征、晶体结构进行调控,进而提高Ni_xO_y的电致变色性能。首先,研究氧分压对Ni_xO_y薄膜电致变色性能的影响。结果表明:当氧分压为0.05Pa时,沉积所得薄膜表面疏松且孔隙较多,增加了离子/电子与电解液的反应面积,提升了电荷容纳能力,具有较大的单位面积电荷容量,提高了离子注入/抽出的扩散速率并缩短了着色/褪色响应时间,氧分压为0.05Pa沉积所得薄膜的光调制幅度、光密度变化以及着色效率均高于其它氧分压下沉积所得的薄膜。其次,研究掠射角度α对Ni_xO_y薄膜电致变色性能的影响。结果表明:掠射角度为α=80°的薄膜表面疏松,断面斜柱状结构明显,极大地提高了单位电荷容量及离子扩散速率,解决了Ni_xO_y薄膜响应时间较长的问题,使其电致变色性能得到了明显提高。最后,研究衬底温度对Ni_xO_y薄膜电致变色性能的影响。结果表明:当衬底温度为150℃时沉积所得薄膜为部分晶化的不定形结构,薄膜内部有序度增加、缺陷减少,提升了薄膜的结晶化程度,继续增加衬底温度至200℃以上时沉积所得薄膜均为晶态薄膜。衬底温度为150℃沉积所得薄膜可以显著地提高循环稳定性以及光调制幅度,表现出比非晶态薄膜更高的着色效率,解决了Ni_xO_y薄膜光学调制幅度范围小、循环稳定性较差的问题。