Zn1-xCoxO和Ti1-xHoxO2薄膜的制备及光学性能研究

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本文采用脉冲激光沉积(PLD)技术,以308nm的XeCl准分子激光作为激发源,以单晶S(i001)为基片,在氧的活性气氛中通过激光烧蚀Zn_(1-x)Co_xO和Ti_(1-x)Ho_xO_2复合靶材,制备了Zn_(1-x)Co_xO和Ti_(1-x)Ho_xO_2薄膜。主要内容分为三部分。一、本文采用正交优化设计方法对XeCl准分子激光器泵浦电路和气体参数进行优化设计,用理论模拟得到的最佳参数进行了实验调试,获得了输出脉宽为20ns,输出能量为200mJ和单脉冲功率为13MW的激光光束。
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