热致变色钒氧化物膜的制备、结构与性能的研究

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【摘要】

：

钒的氧化物非常复杂,至少有八种钒氧化物具有从高温金属相到低温半导体相的转换特性,其转换温度在-147℃～68℃。其中二氧化钒(VO2)因其转换温度(68℃)在室温附近而最引人注目,在其转换过程中电学和光学等物理性能会发生巨变。基于这种特性,VO2薄膜在智能窗、光存储、激光防护、红外探测等领域有广阔的前景。本文制备钒氧化物薄膜的主要方法为反应磁控溅射法。由于影响反应磁控溅射的因素很多,以及钒氧化物的

【作者】

：

龙航宇

【机构】

：

中南大学

【发表日期】

：

2010年06期

【关键词】

：

反应磁控溅射 VO2 功率基体温度掺钨热致相变

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