阶梯光栅一般是指具有90°顶角的三角形槽型的闪耀光栅,通常有小阶梯光栅与中阶梯光栅之分。区别于中阶梯光栅,小阶梯光栅线密度较高,从上百线每毫米至上千线每毫米不等,且在较低的衍射级次发生“闪耀”,主要运用于天文光学望远镜中宽波段光谱探测的小阶梯光栅光谱仪。大口径光学望远镜的发展需要大口径、高效率、高衍射波前的阶梯光栅。其中透射闪耀阶梯光栅,尤其是光栅结构与棱镜结合的棱栅,具有光路简单,能有效节约空间的优点,近年来受到青睐。机械刻划通常被用来制作反射阶梯光栅,而全息-离子束刻蚀技术制作光栅,具有高效率、无鬼线、杂散光较少的优点,更重要的是,容易在石英的透明基底表面制作透射光栅。本文探索使用全息反应离子束刻蚀制作小阶梯光栅的工艺方法。先以光刻胶为掩模垂直刻蚀,之后以矩形石英光栅为掩模,即同质掩模,进行倾斜离子束刻蚀,改变离子束的入射角以制作不同闪耀角的光栅；在倾斜刻蚀中观察分析了掩模阴影中的再沉积对槽型的影响,得到了在再沉积作用下离子束入射角与闪耀角的关系曲线：探索在离子束入射角较小且刻蚀方向不变的情况下,延长刻蚀时间改变光栅槽型顶角的方法,并使用此方法将离子束30°入射所制作光栅的顶角由44°变为78°。最终通过实验成功制作出线密度3601p/mm,闪耀角为16.8°,以及线密度为4001p/mm,闪耀角为34.7°和43°的小阶梯光栅。对+1级闪耀级次的透射衍射效率进行了测量,结果表明在光栅的工作波段的衍射效率基本在理论值的75%以上。在保证衍射效率的基础上拓展了全息离子束工艺制作闪耀光栅的范围,对今后全息离子束制作小阶梯光栅提供参考。