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本工作采用螺旋波增强等离子体化学气相沉积(HWP-CVD)技术制备了不同结构的纳米硅/氮化硅镶嵌复合薄膜,并主要关注热退火处理对镶嵌于氮化硅中纳米硅微观结构调整的研究。采用多种检测手段,对薄膜的表面形貌、键合结构、物相特征及能带特性等进行表征与分析,并重点对薄膜的微观结构特性进行了详细探讨,寻求纳米硅薄膜微结构调整与改善的条件。取得的主要结果如下：通过合理控制HWP-CVD的实验参量,实现了镶嵌在氮化硅中纳米硅薄膜的低温沉积。调整反应气体中的氢气稀释量,研究了氢气稀释对纳米硅/氮化硅薄膜微观