多孔阳极氧化铝膜具有微孔分布均匀,孔径大小基本相同,孔密度较高,柱状孔之间相互平行,并可以通过改变氧化条件灵活控制膜厚和孔径,因此利用阳极氧化铝膜制各纳米材料已成为国内外研究的热点。 本文首先利用正交试验法研究了影响氧化铝膜性能的因素:氧化时间、氧化电压和扩孔时间,分别讨论了各影响因素对膜性能的单独作用,进而得出多孔膜的最佳制备工艺;利用交流电沉积的方法在多孔阳极氧化铝膜孔中沉积Ni金属微粒,获得具有特殊性能的Ni纳米线阵列膜,为以后的膜性能测试做好准备;通过扫描电子显微镜、透射电子显微镜、EDX能谱、X射线衍射仪、电子探针等表征方法对阳极氧化铝膜和Ni纳米线阵列膜的结构和组分进行分析;将Ni纳米线阵列膜浸在不同腐蚀液中,计算一定时间后的失重率,进而发现其在酸、碱、盐腐蚀液中的耐蚀性;采用紫外、可见、近红外分光光度计分别测定了Ni纳米线阵列膜的光选择吸收特性和光的各向异性。 试验结果表明:在膜的制备过程中扩孔时间是影响膜性能的主要因素,氧化时间、氧化电压其次;经扩孔后的孔形由起初的不规则圆形变为规则圆形,更利于以后制备形状更加规则的纳米线;确定了多孔膜的最佳制备工艺:温度20℃,反应时间120min,反应电压115V,扩孔时间6min;阳极氧化铝膜不适于在强酸、碱环境中存在,但与中性盐环境可以共存;沉积了金属微粒的多孔氧化铝薄膜具有选择吸收性和偏光特性,可作为可见光区域的选择吸收材料和装饰材料或者近红外、红外区域偏光材料和透光材料。