【摘 要】
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ESPC (Equipment Statistical Process Control)系统即设备过程控制系统,该系统是建立于SPC (Statistical Process Control)理论之上的生产应用,目的是对半导体制造设备进行
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ESPC (Equipment Statistical Process Control)系统即设备过程控制系统,该系统是建立于SPC (Statistical Process Control)理论之上的生产应用,目的是对半导体制造设备进行实时的监控。本文从晶圆厂实际生产情况出发,为解决现在有SPC系统的缺点,同时借鉴SPC理论在产品质量管理方面的成功经验,设计出适合半导体制造过程中光刻工艺的设备过程控制系统(ESPC)。同时结合实践,在光刻工艺的关键参数的选择,参数控制界限的确定,数据异常处理和系统应用成果等方面都进行了研究和阐述。经过一段时间的应用和优化,验证了系统的可靠性,并最终将ESPC系统成功适用于生产实践当中。希望能通过此文能给大家在设备过程控制方面带来启迪。
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