自从2010年诺贝尔物理学奖授予了英国曼彻斯特大学的两个发现石墨烯的教授之后,石墨烯便受到了广泛的关注。纳米材料的研究热点迅速从一维纳米材料转向二维纳米材料。作为最薄的二维材料,氮化硼薄膜有着非常出色的电磁学性质和力学性质。很多需要二维薄膜应用的场合都可以用到氮化硼薄膜。氮化硼薄膜可以提高和促进现在的一些基于石墨烯的纳机电系统的性能。本文围绕氮化硼薄膜在剪切作用下的力学行为和褶皱特征,运用了分子动力学和连续介质力学方法去研究二维薄膜的力学特征。本文主要研究了薄膜尺寸和环境温度对薄膜剪切模量、破坏应力、破坏应变、褶皱高度、褶皱波长的影响。在分子动力学模拟中,采用Tersoff多体势描述氮化硼薄膜内原子间的化学键作用。首先模拟了氮化硼薄膜的拉伸过程,得到了和别人一致的结果,验证了我们模型的正确性。而后,通过分子动力学模拟剪切过程。通过分子动力学模拟得出了随着尺寸和温度的增加,薄膜的剪切模量会下降,破坏应变和破坏应力也会一直下降。并且力学特征量对于温度更加敏感。薄膜的剪切模量随着尺寸的增加发生下降,但是最后会趋于一个有限值。综合了连续介质理论和分子动力学两种方法来研究褶皱特征。研究表明连续介质方法过高的估计了褶皱的高度。分子动力学可以很准确的预测薄膜在剪切和拉伸作用下的力学性质。