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集成电路的制造需要在晶圆上做出极细微尺寸的图案(Pattern).而这些图案最主要的形成方式,乃是使用蚀刻(Etching)技术,将微影(Lithog raPhy)技术所产生的光阻图形忠实无误的移转到薄膜上,以定义出整个集成电路所需的复杂结构.
VLSI干蚀刻技术简介
【摘 要】
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集成电路的制造需要在晶圆上做出极细微尺寸的图案(Pattern).而这些图案最主要的形成方式,乃是使用蚀刻(Etching)技术,将微影(Lithog raPhy)技术所产生的光阻图形忠实无误的
【机 构】
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上海交通大学微纳米科学技术研究院,中芯国际集成电路制造有限公司上海交通大学微纳米科学技术研究院
【出 处】
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科技资讯
【发表日期】
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2007年35期
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