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利用离子束增强交替溅射聚四氟乙烯和氮化硅靶的方法制备出微组装的Ｔｅｆｌｏｎ／Ｓｉ３Ｎ４多层膜，并通过ＰＨＩ－５３００，ＦＴ－ＩＲ２０００，ＸＲＤ和ＡＦＭ／ＦＦＭ等测定了多层膜的结构，力学性能和微观摩擦磨损性能。
微组装Teflon／Si3N4多层膜的结构和微摩擦磨损性能
【摘 要】
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利用离子束增强交替溅射聚四氟乙烯和氮化硅靶的方法制备出微组装的Ｔｅｆｌｏｎ／Ｓｉ３Ｎ４多层膜，并通过ＰＨＩ－５３００，ＦＴ－ＩＲ２０００，ＸＲＤ和ＡＦＭ／ＦＦＭ等测定了多层膜的结构，力学性能和微观摩擦磨损性能。
【机 构】
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清华大学摩擦学国家重点实验室,香港科技大学化学系
【出 处】
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金属学报
【发表日期】
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1998年6期
【基金项目】
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国家自然科学基金!5975032,,清华大学磨擦学国家重点实验室开放基金,,中国博士后基金,,国防科工委微机理研究专项青年基金
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