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难熔金属钨具有高强度、低蒸汽压、无化学腐蚀性等优点,被选为核聚变堆面向等离子体材料。通过各种工艺手段将钨涂覆在基体材料表面,是制作面向等离子体部件的新技术。综述了国内外几种钨涂层的制备工艺,主要包括:气相沉积法、等离子喷涂法以及熔盐电镀,介绍了其各自的优缺点,指出离子液体电沉积技术在室温下就可以完成金属薄膜的制备,值得进一步探索其工程化应用。