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离子交换法制备了不同粒径的纳米二氧化硅溶胶,采用TEM、DLS等手段对磨料进行了表征,并以二氧化硅溶胶作为磨料对存储器硬盘基板NiP进行化学机械抛光实验,考察了磨料粒径和数量等因素对存储器硬盘基板NiP的抛光去除速率的影响。
二氧化硅溶胶的制备及其对硬盘基板NiP的抛光速率研究
【摘 要】
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离子交换法制备了不同粒径的纳米二氧化硅溶胶,采用TEM、DLS等手段对磨料进行了表征,并以二氧化硅溶胶作为磨料对存储器硬盘基板NiP进行化学机械抛光实验,考察了磨料粒径和数
【机 构】
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天津工业大学环境与化学工程学院
【出 处】
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辽宁化工
【发表日期】
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2011年5期
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