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应力阻抗效应（SI）是近年来在非晶态合金材料中发现的又一新的具有研究和应用价值的特殊物理效应，利用这种效应可以研制出高灵敏度的应力／应变传感器。简单介绍了应力阻抗效应的理论依据，分析了近几年来国内外在这方面的研究进展，主要有非晶丝、非晶带和薄膜应力阻抗效应的研究以及不同处理工艺对其应力阻抗效应的影响，适当的处理工艺引入的各向异性对应力阻抗效应的提高有很大的贡献。