聚乙烯咔唑/杂多阴离子杂化LB膜的制备、结构与光电性质

来源 :化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chentong85952000
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首次选用聚乙烯咔唑(PVK)、二十二烷酸(BA)与杂多阴离子用LB技术制备了五种有机/无机杂化LB膜,PVK/BA/HPC(HPC=Na5[PZ(H2O)Mo11O39]@5H2O,Z=Mn,Co,Cu,Zn,Ni).用原子力显微镜(AFM),UV-vis,小角x射线衍射(LAXRD),表面光电压谱(SPS),荧光光谱等对LB膜的结构与性质进行了表征.结果表明:它们在空气/水界面有好的成膜性能,崩溃压为22~27mN/m,杂多阴离子作为一个单层夹在PVK和BA双层之间.PVK/BA/HPC LB膜的光致发
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