靶电流对TiAIN/TiN复合膜组织及硬度的影响

来源 :热加工工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hailongsky

【摘要】

：

采用多弧离子镀技术在 40Cr 基体上制备 TiAlN/TiN 复合膜层,通过金相显微镜、扫描电镜和显微硬度仪研究靶电流对膜层表面形貌、沉积率及硬度的影响.结果表明:靶材电流对膜层

【作者】

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卢龙任明皓蒋涛严铿

【机构】

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淮海工学院,机械工程学院,江苏,连云港,222005重庆大学,机械传动国家重点实验室,重庆,400044;江苏科技大学,材料学院,江苏,镇江,212003;

【出处】

：

热加工工艺

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

多弧离子镀 TiAlN TiN 靶电流

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采用多弧离子镀技术在 40Cr 基体上制备 TiAlN/TiN 复合膜层,通过金相显微镜、扫描电镜和显微硬度仪研究靶电流对膜层表面形貌、沉积率及硬度的影响.结果表明:靶材电流对膜层组织和硬度有显著影响,电流越高膜层表面越不平整,显微硬度随靶材电流的升高先上升后降低.靶电流越高,膜层中 Ti、Al 原子的含量就越高.

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