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MapperLithography日前表示，公司已经向台积电（TSMC）发货其首套300mm电子束（e．beam）无掩模光刻工具，用于22nm工艺研发和器件原型制作。
Mapper向台积电发货电子束光刻系统用于22nm节点
【摘 要】
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MapperLithography日前表示，公司已经向台积电（TSMC）发货其首套300mm电子束（e．beam）无掩模光刻工具，用于22nm工艺研发和器件原型制作。
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2008年10期
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