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石墨烯是具有优异性能的二维碳材料。采用微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD），以甲烷和氢气为气源，在镍基底上生长石墨烯薄膜，沉积温度在650℃附近。对制备石墨烯薄膜用金相显微镜、原子力显微镜观察其覆盖率和表面形貌，用拉曼光谱仪对沉积薄膜的层数、质量和非晶碳含量进行表征。研究结果表明氢等离子体对表面碳键有明显刻蚀，产生空隙和晶界缺陷；甲烷含量的升高提高了膜层的覆盖率，也促进非晶碳的生成；气压较低时膜层覆盖率较低，较高时膜层厚度明显增加。