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采用快速热处理对电池片表面非晶氮化硅膜进行不同温度和不同时间热处理退火比较，研究退火对薄膜减反射性能的影响。结果显示：随着快速热处理温度的升高，其达到较优减反射性能所需的热处理时间缩短；当热处理温度高于800℃时，其减反射性能普遍变差；得出较优的热处理方案为退火温度750℃，退火时间10s，其加权平均反射率为1．59％。