表面活性剂对化学发光的增敏机理探讨

来源 :云南大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:fly_songs
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<正> 近年来表面活性剂在化学发光分析中得到广泛地应用,但有关表面活性剂对化学发光反应增敏作用的机理研究却少见报道。 本文试验了15种不同类型的表面活性剂对DMPF-H2O2-Co(Ⅱ)体系化学发光反应的影响。选择了两种有代表性的增敏表面活性剂——CTMAB和Triton X—100,试验了其浓度变化对化学发光强度的影响。
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