基于旋涂的纳米压印技术研究

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尝试使用一种新的工艺--旋涂法来达到图案复制的目的,介绍了旋涂法完成图案复制的实验过程,就印章及其复制品的尺寸作了对比,并分析了实验中观察到的缺陷.得出在精确控制实验条件的前提下,可以通过旋涂方法得到高品质微纳米级图案的结论.
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