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采用硅烷偶联剂（KH-560）对纳米羟基磷灰石（n—HA）表面进行处理，并研究了n—HA与KH-560的界面作用．傅立叶红外光谱（FT-IR）以及X光电子能谱（XPS）分析表明，偶联剂在羟基磷灰石表面黏附，其中硅羟基（Si—OH）与磷酸氢根（HPO4^2-）基团之间脱水形成稳定的SiO—P化学键，此外，硅羟基与HA表面-OH间亦脱水形成化学键合．偶联处理的HA与聚碳酸酯（PC）复合后，复合材料的力学强度与未经处理的相比有明显提高．扫描电子显微镜（SEM）结果显示，经处理后的HA微粒在PC中分散均匀，两者间