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本文主要介绍采用磁控溅射制备 Ni-Cr薄膜的方法,并通过光刻、腐蚀,找到最佳的腐蚀条件,得到符合要求的Ni-Cr薄膜,并把它应用到具体电路中,取得满意的效果.
高稳定Ni-Cr薄膜电阻的研究
【摘 要】
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本文主要介绍采用磁控溅射制备 Ni-Cr薄膜的方法,并通过光刻、腐蚀,找到最佳的腐蚀条件,得到符合要求的Ni-Cr薄膜,并把它应用到具体电路中,取得满意的效果.
【机 构】
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沈阳工业大学电子科技教研室,东北微电子研究所
【出 处】
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微处理机
【发表日期】
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2005年4期
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