【摘 要】
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以含羧基化合物A或其铵盐B,又或焦磷酸钾作为辅助配位剂进行无氰电镀银。镀液的基础组成和工艺条件为:硝酸银5 g/L,丁二酰亚胺60 g/L,硼砂5~10 g/L,pH=9.5±0.5,温度20~3
【机 构】
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南昌航空大学材料科学与工程学院,深圳市思源达科技有限公司
【基金项目】
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国家自然科学基金(51961028)
论文部分内容阅读
以含羧基化合物A或其铵盐B,又或焦磷酸钾作为辅助配位剂进行无氰电镀银。镀液的基础组成和工艺条件为:硝酸银5 g/L,丁二酰亚胺60 g/L,硼砂5~10 g/L,pH=9.5±0.5,温度20~30℃,磁力搅拌,时间30 min。研究了3种辅助配位剂对无氰电镀银光亮电流密度范围及银层光泽、结合力和表面形貌的影响。结果表明,采用化合物含羧基铵盐化合物B作为辅助配位剂时光亮电流密度范围为0.020~0.867 A/dm^2,所得银层的光泽高达579 Gs,结合力良好,组织结构受电流密度的影响较小。
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