【摘 要】
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研究了工艺条件对电子束蒸发沉积在K9玻璃上TiO2薄膜的结构和光学性能的影响.正交试验结果表明,基片温度是影响薄膜光学常数的主要因素,制备TiO2薄膜的最佳工艺参数为:基片温
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研究了工艺条件对电子束蒸发沉积在K9玻璃上TiO2薄膜的结构和光学性能的影响.正交试验结果表明,基片温度是影响薄膜光学常数的主要因素,制备TiO2薄膜的最佳工艺参数为:基片温度300 ℃,工作真空2×10-2 Pa,沉积速率0.2 nm/s.采用最佳工艺沉积在透明基片上的TiO2薄膜在可见光区具有良好的透过特性,同时也得出了薄膜的光学带隙能Eg=3.77 eV.SEM观察结果表明薄膜为柱状纤维结构,柱状纤维的直径在100～150 nm之间.
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