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光敏聚酰亚胺是近20年来随着微电子工业的发展而迅速崛起的一类新型高分子材料,它广泛应用于微电子领域,在航空航天等尖端工业中也有着重要用途.预亚胺化可溶性负性光敏聚酰亚胺光致抗蚀剂在简化光刻工艺,增强耐热性,提高图形留膜率等方面具有诱人的前景[1～2].
光敏聚酰亚胺抗蚀剂的研究
【摘 要】
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光敏聚酰亚胺是近20年来随着微电子工业的发展而迅速崛起的一类新型高分子材料,它广泛应用于微电子领域,在航空航天等尖端工业中也有着重要用途.预亚胺化可溶性负性光敏聚酰
【机 构】
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河北工业大学化学工程学院,天津,300130北京化学试剂研究所,北京,100022;
【出 处】
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感光科学与光化学
【发表日期】
：
2004年期
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