NiO阳极薄膜制备与电化学性能

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【摘要】

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采用真空蒸镀并辅以热氧化法制备了NiO电极薄膜,考察了氧化温度对薄膜结构与电化学性能的影响. 结果表明,在600～700 ℃氧化温度下制备的NiO薄膜由颗粒大小为56～81 nm的纳晶组成

【作者】

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赵胜利文九巴祝要民秦启宗

【机构】

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河南科技大学材料学院,复旦大学激光化学研究所

【出处】

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应用化学

【发表日期】

：

2006年5期

【关键词】

：

NiO薄膜真空蒸发热氧化 NiO film vacuum evaporation thermal oxidation

【基金项目】

：

国家自然科学基金（20203006）,河科大人才科研基金（04015）资助项目和河科大科研基金项目（2003ZY42）

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采用真空蒸镀并辅以热氧化法制备了NiO电极薄膜,考察了氧化温度对薄膜结构与电化学性能的影响. 结果表明,在600～700 ℃氧化温度下制备的NiO薄膜由颗粒大小为56～81 nm的纳晶组成. NiO薄膜的可逆放电容量随氧化温度的升高而增大,循环性能却略有降低. 在600 ℃氧化2 h时制得的NiO薄膜具有较高的放电容量和很好的循环性能.

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