【摘 要】
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介绍了用磁控溅射法制备Au／Gd（金／钆）多层膜的初步实验结果。在摸索出的工艺条件下，采用计算机定时控制膜厚的方法，按照设计的周期结构（设计周期厚度10nm．Au／Gd=5nm／5nm，总周期数为25）制
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心,同济大学物理系
【基金项目】
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国家863计划项目资助课题（10075040）
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介绍了用磁控溅射法制备Au／Gd（金／钆）多层膜的初步实验结果。在摸索出的工艺条件下，采用计算机定时控制膜厚的方法，按照设计的周期结构（设计周期厚度10nm．Au／Gd=5nm／5nm，总周期数为25）制备了界面清晰、表面光滑的多层膜样品。X—Ray衍射仪小角衍射测试的周期厚度为9、95nm.和设计值十分吻合，原子力显微镜（AFM）的检测表明，薄膜的表面粗糙度小于1、7nm。
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