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许多高性能微传感器和微执行器的实现都离不开高灵敏度的薄膜，使用微机械加工方法制备的薄膜一般有着不可忽视的残余应力。残余应力极大地降低了膜的机械灵敏度。文中提出的纹膜结构，可在不改变工艺条件的前提下，显著地降低残余应力的不良影响，大幅度增加膜的灵敏度。理论分析的结果表明，纹膜几何参数的设计是提高灵敏度的关键。文中提出了一种简单实用的纹膜制造工艺，并结合此工艺设计出若干实际的结构。利用有限元分析（FEA）工具对结构进行了进一步的模拟和优化，得到了各项设计参数的最优值，优化后纹膜的灵敏度较平膜提高了一个数量级，