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利用密度泛函理论和原子簇模型，对NH3、H20分子在选择性催化还原脱硝催化剂表面不同吸附位上的吸附情况进行了理论研究。结果表明：NH3能吸附在V205表面的Lewis和Bronsted酸位，但在后者吸附位上更稳定。当五氧化二钒以多聚物结构存在时，NH3能与0(1)H生成稳定的NH4+，该物质在SCR反应中起着关键作用，吸附能为-128 kJ·mol-1；同时水也可与该吸附位形成稳定构型，吸附能为-97 kJ·mol-1。在V205表面，水与反应物NH3的吸附能相当，两者发生竞争吸附，从而在一定程度上对SCR脱硝反应产生抑制作用。