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期刊论文
GaN薄膜发光特性的研究
GaN薄膜发光特性的研究
来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:happysanban
【摘 要】
:
通过扫描电子显微镜和室温光荧光谱仪研究了生长气氛、缓冲层厚度、掺杂浓度不同对GaN薄膜发光特性的影响.实验证明,缓冲层可以较好地改善外延膜的结构和表面形貌.n型GaN薄膜
【作 者】
:
李静
冯倩
何秀坤
汝琼娜
周智慧
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第46所,西安电子科技大学微电子研究所
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2005年5期
【关键词】
:
扫描电子显微镜
光荧光谱仪
生长气氛
缓冲层
掺杂
SEMphotoluminescence spectragrowing atmospherebuffer l
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通过扫描电子显微镜和室温光荧光谱仪研究了生长气氛、缓冲层厚度、掺杂浓度不同对GaN薄膜发光特性的影响.实验证明,缓冲层可以较好地改善外延膜的结构和表面形貌.n型GaN薄膜的光荧光谱图显示,主峰的积分强度随着掺硅浓度的增高而增高,黄带峰的发光强度反而下降.
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