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薄外延CMOS芯片阱掺杂浓度与击穿电压的关系
薄外延CMOS芯片阱掺杂浓度与击穿电压的关系
来源 :电子与封装 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zdjige
【摘 要】
:
CMOS电路由于寄生结构的影响,易于发生闩锁效应。主要通过流片实验测试验证,探讨了在外延厚度较薄的情况下阱掺杂浓度与击穿电压之间的关系。提出了在不改变外延厚度、保证芯
【作 者】
:
韩兆芳
谢达
乔艳敏
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第58研究所
【出 处】
:
电子与封装
【发表日期】
:
2016年8期
【关键词】
:
CMOS集成电路
闩锁效应
外延片
穿通击穿
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CMOS电路由于寄生结构的影响,易于发生闩锁效应。主要通过流片实验测试验证,探讨了在外延厚度较薄的情况下阱掺杂浓度与击穿电压之间的关系。提出了在不改变外延厚度、保证芯片抗闩锁性能的前提下,提高CMOS器件击穿电压的方法。
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