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介绍了集成电路TCAD虚拟工厂系统Taurus Workbench,基于CMOS工艺的特点,在Taurus Workbench环境下进行了深亚微米级n沟器件的核心参数优化.优化结果印证了新的工艺条件对器件特性的改善.
集成化NMOS核心工艺参数的Taurus Workbench优化
【摘 要】
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介绍了集成电路TCAD虚拟工厂系统Taurus Workbench,基于CMOS工艺的特点,在Taurus Workbench环境下进行了深亚微米级n沟器件的核心参数优化.优化结果印证了新的工艺条件对器件
【机 构】
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山东大学信息科学与工程学院,河北理工学院
【出 处】
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微纳电子技术
【发表日期】
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2004年9期
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