【摘 要】
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利用电子背散射衍射技术检测分析了CVD自支撑金刚石薄膜侧面微区织构和孪晶,计算了{100}、{110}、{111}、{122}、{447}、{148}晶面平行薄膜表面的织构在薄膜生长过程中各阶段
【机 构】
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北京科技大学材料科学与工程学院,北京科技大学材料科学与工程学院,北京科技大学材料科学与工程学院 北京100083,北京100083,北京100083
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利用电子背散射衍射技术检测分析了CVD自支撑金刚石薄膜侧面微区织构和孪晶,计算了{100}、{110}、{111}、{122}、{447}、{148}晶面平行薄膜表面的织构在薄膜生长过程中各阶段所占的比例。研究结果表明,不稳定的沉积温度不利于{100}、{110}、{111}织构的形成,孪晶造成了{122}、{447}、{148}织构。
The micro-texture and twins of CVD self-supporting diamond films were detected by electron backscatter diffraction technique. The {100}, {110}, {111}, {122}, {447}, {148} The proportion of the texture of the parallel film surface in each phase of the film growth. The results show that the unstable deposition temperature is not conducive to the formation of {100}, {110} and {111} texture. Twins cause {122}, {447} and {148} texture.
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