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微桌面深硅刻蚀系统SF6/O2/C4F8三元气体刻蚀工艺研究

来源 :稀有金属 | 被引量 : 0次 | 上传用户：songlyan182320697

【作 者】

：

刘钊成 连紫薇 赵鸿滨 Parker Gould Mitchel 

【出 处】

：

稀有金属

【发表日期】

：

2019年04期

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