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提出了一种新型的与制程窗口紧密相关，被称为偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应模型，该模型包含制程参数变化的信息。该模型引导得到的修正的图形在工艺参数变化时也会表现得非常稳定，而且相对标准模型而言，缩短了建立模型的周期，节省了光罩出版的时间。
偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应修正
【摘 要】
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提出了一种新型的与制程窗口紧密相关，被称为偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应模型，该模型包含制程参数变化的信息。该模型引导得到的修正的图形在工艺参数变化时也会表现
【机 构】
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上海宏力半导体制造有限公司,中国科学院上海微系统与信息技术研究所,中国科学院研究生院
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2006年9期
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