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离子束轰击化合物涂层镀膜是七十年代发展起来的一种新方法。本文叙述了用这种方法在硅片和玻璃片上形成钯膜的过程,并给出了用扫描电子显微镜和俄歇电子谱仪观察分析的结果。最后讨论了镀膜的机理和可能的应用。
离子束分解卤化物涂层镀膜技术的初步实验
【摘 要】
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离子束轰击化合物涂层镀膜是七十年代发展起来的一种新方法。本文叙述了用这种方法在硅片和玻璃片上形成钯膜的过程,并给出了用扫描电子显微镜和俄歇电子谱仪观察分析的结果
【机 构】
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四川大学原子核科学技术研究所
【出 处】
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核技术
【发表日期】
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1986年2期
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