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磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展
磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展
来源 :宇航材料工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户:angus000
【摘 要】
:
W-Ti合金靶材可作为原材料,通过磁控溅射技术,制备W-Ti、W-Ti-N、W-Ti-O等功能薄膜,应用于集成电路、薄膜太阳能电池等领域.本文介绍了W-Ti合金靶材的性能指标、各种制备技术和应用领域,提出高纯度、全致密、少富Ti相、小粒径、大尺寸、低成本是W-Ti合金靶材的重要方向.
【作 者】
:
杨亚飞
姚草根
吕宏军
李启军
崔子振
【机 构】
:
航天材料及工艺研究所,北京100076
【出 处】
:
宇航材料工艺
【发表日期】
:
2021年6期
【关键词】
:
W-Ti合金靶材
集成电路
致密度
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W-Ti合金靶材可作为原材料,通过磁控溅射技术,制备W-Ti、W-Ti-N、W-Ti-O等功能薄膜,应用于集成电路、薄膜太阳能电池等领域.本文介绍了W-Ti合金靶材的性能指标、各种制备技术和应用领域,提出高纯度、全致密、少富Ti相、小粒径、大尺寸、低成本是W-Ti合金靶材的重要方向.
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