【摘 要】
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本文阐述了r.f.溅射工艺参数,如:真空室压力、r.f.溅射功率、衬底温度和沉积速率对ZnO薄膜的晶粒大小及结构的影响,并给出了研究结果。这种薄膜是在正向功率大小为50—500W、
【机 构】
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Silesian技术大学物理系 波·Glwice
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本文阐述了r.f.溅射工艺参数,如:真空室压力、r.f.溅射功率、衬底温度和沉积速率对ZnO薄膜的晶粒大小及结构的影响,并给出了研究结果。这种薄膜是在正向功率大小为50—500W、真空室压力为0.13—13.3Pa、衬底温度为300—700K的条件下在康宁7059玻璃衬底上沉积的。研究结果表明,其结构和晶粒大小取决于沉积速率和衬底温度。在比平行取向的膜沉积速率及衬底温度低一些的条件下制备出了垂直取向的ZnO薄膜。
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