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最近的两年多以来．65nm半节距（HP）光刻．传统上叫做45nm节点．在最先进的晶圆厂内十分活跃。其间出现了多种光刻技术选择方案．然而大多数逻辑和存储器公司最终决定．在最具挑战性的关键层中结合使用ArF干法、ArF浸没式和／或一些双重硬掩膜方法。
不改变光刻波长实现45nm半节距
【摘 要】
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最近的两年多以来．65nm半节距（HP）光刻．传统上叫做45nm节点．在最先进的晶圆厂内十分活跃。其间出现了多种光刻技术选择方案．然而大多数逻辑和存储器公司最终决定．在最具挑战性的关键
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2007年4期
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