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采用电弧离子镀技术和挡板，在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体上沉积TiAlN涂层。圆形挡板放置于Ti50Al50合金靶和试样架之间，尺寸与靶材直径相同。沉积实验在不同偏压下进行，分别为0V、150V、350V、550V。采用SEM／EDS、XRD研究挡板作用下偏压对涂层微观结构、成分的影响，通过显微硬度计和摩擦磨损试验研究偏压对TiAlN涂层力学性能的影响。结果表明，随着偏压的增大，TiAlN涂层中Ti含量上升，Al含量下降，涂层由两相结构向单相结构转变。涂层表面熔滴数量随偏压增加而减少，涂层硬度上升