【摘 要】
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在小角度范围,532nm CW光束以连续变化的入射角辐照Ritchey-Chretien (R-C)光学系统,利用CCD系统测量像面中心的强度,得到了该光学系统的离轴响应曲线,对杂光进行了初步分析.
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在小角度范围,532nm CW光束以连续变化的入射角辐照Ritchey-Chretien (R-C)光学系统,利用CCD系统测量像面中心的强度,得到了该光学系统的离轴响应曲线,对杂光进行了初步分析.结果表明,当离轴角小于0.2o时,PST大于3.0×10-4,并在若干位置出现了峰值,杂光比较明显;离轴角大于0.6o时,PST小于4.5×10-7,且呈单调衰减趋势,光学系统对杂光有较强的抑制能力.
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