HL-1M装置内壁锂涂覆实验

来源 :中国核科技报告 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Butterfly1982_2_2
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Li是原子序数最小的金属元素,具有非常活泼的化学活性,是最有希望的第一壁材料。TFTR装置经过锂化后提高了等离子体存储能量、中心离子温度和密度的峰化以及聚变反应速率,表明了原位锂化的巨大优越性。原位硅化已成为HL-1M装置常规壁处理手段,与此同时,HL-1M装置也正在探索先进的锂化工艺技 Li is the smallest atomic number of metal elements, with very active chemical activity, is the most promising first wall material. Lithiation of TFTR devices increases plasma storage energy, peaking of the center ion temperature and density, and fusion reaction rates, demonstrating the great advantage of in-situ lithiation. In-situ silicidation has become the conventional wall treatment of HL-1M devices, while HL-1M devices are also exploring advanced lithiation processes
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