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采用有交互作用的正交实验方法对磁控溅射法在玻璃基片上制备FePt／Ag纳米双层膜Ag底层的溅射参数进行研究．通过直观分析，方差分析和XRD图分析，可以选出Ag底层诱导FePt层取向生长的最佳溅射条件，为FePt磁性层性能的进一步研究应用奠定了基础.
Ag溅射参数对FePt／Ag薄膜取向生长的影响
【摘 要】
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采用有交互作用的正交实验方法对磁控溅射法在玻璃基片上制备FePt／Ag纳米双层膜Ag底层的溅射参数进行研究．通过直观分析，方差分析和XRD图分析，可以选出Ag底层诱导FePt层取向生长
【机 构】
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山西师范大学化学与材料科学学院
【出 处】
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山西师范大学学报：自然科学版
【发表日期】
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2007年1期
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