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在碱性硅酸盐体系中对纯铝进行等离子体电解氧化处理。采用正交实验研究电压、频率、占空比及其交互作用对等离子体电解氧化膜层厚度和耐蚀性能的影响。通过Image J软件测量膜层截面以获得膜层厚度,并分别采用点滴和电化学实验评价膜层在HNO3和NaCl介质中的耐蚀性能。结果表明,本研究实验设计是研究电参数间交互作用的关键所在。各电参数不仅独立地影响膜层,而且其交互作用也显著影响膜层。高电压、低频率和大占空比间的交互作用使膜层厚度和耐蚀物相含量显著增加,进而改善膜层在HNO3腐蚀介质中的耐蚀性能;反之,低电压、高频