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高能氩离子束溅射金属铝靶，沉积在单晶Si基片上的非晶薄膜是Al和Al2O3的混合物。在空气中对其进行900-1200℃的热处理，成功地制备了以不同结晶形式存在的多晶Al2O3薄膜，讨论了不同退火温度对其结晶性能、表面形貌及红外吸收光谱的影响，为Al2O3薄膜制备与应用提供了良好借鉴。
多晶Al2O3薄膜的制备及其红外吸收谱研究
【摘 要】
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高能氩离子束溅射金属铝靶，沉积在单晶Si基片上的非晶薄膜是Al和Al2O3的混合物。在空气中对其进行900-1200℃的热处理，成功地制备了以不同结晶形式存在的多晶Al2O3薄膜，讨论了不
【机 构】
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新疆大学物理科学与技术学院
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2008年1期
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