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石墨烯的p型和n型掺杂调控对于石墨烯基功能器件的构筑至关重要。近年来，随着化学气相沉积（CVD）石墨烯技术的发展和广泛应用， CVD 石墨烯掺杂技术及相应性能调控的研究也取得了极大进展。本文主要介绍了近几年来石墨烯，特别是 CVD 生长石墨烯掺杂研究的发展，讨论了金属电极接触、气体小分子吸附、氧化性及还原性极性分子吸附及晶格掺杂等多种石墨烯掺杂的方法，同时介绍了近期出现的对双层石墨烯能带调控以及制造石墨烯 p-n 结的研究，展望了石墨烯掺杂对于其功能器件研究的作用和发展前景。