低温净化冶金硅工艺

来源 :中国有色金属学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xy_zhuo
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硼、磷杂质的去除在冶金净化法生产太阳能级多晶硅工艺中耗能最大。金属熔析净化法可以实现冶金硅在金属液中低温下熔化,而后再结晶净化,是一种可行的低能耗硼磷去除方法。对熔析体系的选择原则进行总结,筛选出铝、锡和铟金属作为合适的熔析介质。对于Sn-Si体系,1500K时硼的分凝系数为0.038,远小于纯硅熔点的对应值0.8。冶金硅二次熔析净化处理可使硼的质量分数由15×10^-6降至0.1×10^-6,而多数金属杂质可一次性去除至0.1×10^-6以下。在熔析过程中,杂质和硅生成化合
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